სილიკონის გარეშე, კვლავ აბრეშუმისებრი: ეთილ მაკადამიატის ფორმულა

რადგან სილიკონის გარეშე და შემცირებული სილიკონის შემცველობის მქონე სილამაზის პროდუქტებზე მოთხოვნა კვლავ იზრდება, ფორმულირებების შემქმნელები პრაქტიკული გამოწვევის წინაშე დგანან: სილიკონების მოცილება შედარებით მარტივია, მაგრამ მათი გლუვი სრიალის, სწრაფი განაწილებისა და ელეგანტური დასრულების ხელახლა შექმნა - არა.

სწორი დამარბილებელი სისტემის გარეშე, სილიკონისგან თავისუფალი ფორმულირებები შეიძლება მძიმე, ცხიმიანი ან ნელა შეწოვადი იყოს. ამან შეიძლება შექმნას ხარვეზი ბუნებრივად განლაგებული პროდუქტის კონცეფციასა და დახვეწილ სენსორულ გამოცდილებას შორის, რომელსაც მომხმარებლები სულ უფრო მეტად ელიან.

ეთილ მაკადამიატი გვთავაზობს მცენარეული წარმოშობის მიდგომას, რომელსაც მხარს უჭერს გაზომვადი შესრულება.

მაკადამიის ზეთის უფრო მსუბუქ ეთერად გარდაქმნა

ეთილ მაკადამიატი მიიღება ბიოკატალიზური ტრანსესტერიფიკაციის გზით, რაც მაკადამიის ტრიგლიცერიდებს უფრო მსუბუქ, დაბალი სიბლანტის მქონე ეთერად გარდაქმნის.

ეს სტრუქტურული ცვლილება გავლენას ახდენს რამდენიმე თვისებაზე, რომლებსაც მომხმარებლები აღიქვამენ გამოყენების დროს, მათ შორის სიბლანტეზე, წასმის უნარსა და ნარჩენ ცხიმიანობაზე.

მისი ზედაპირული დაჭიმულობა 21.9 მნ/მ-ს აღწევს, რაც დაბალი სიბლანტის სილიკონის ზეთებისთვის დამახასიათებელი 19–22 მნ/მ დიაპაზონშია და ნედლი მაკადამიის ზეთისთვის გაზომილ 29.1 მნ/მ-ზე ნაკლებია.

ზედაპირული დაჭიმულობის ეს დაბალი დონე ხელს უწყობს სწრაფ გავრცელებას და გლუვ სრიალს, რაც ეთილის მაკადამიატს ეხმარება სილიკონის მსგავსი სენსორული მახასიათებლების უზრუნველყოფაში, ამავდროულად, მცენარეული წარმოშობის პოზიციონირების შენარჩუნებით.

მსუბუქი შესრულება, მხარდაჭერილი მონაცემებით

იმავე პარტიის ნედლ მაკადამიის ზეთთან შედარებითი შეფასებისას, ეთილ მაკადამიატმა აჩვენა მკაფიო განსხვავებები სამ სენსორულ პარამეტრში:

● 3.58-ჯერ დაბალი სიბლანტე: 35.6 cps 127.5 cps-თან შედარებით

● 40%-ით დაბალი შეხების კუთხე: ხელს უწყობს უფრო სწრაფ და თანაბარ განაწილებას

● 67.1%-ით ნაკლები საშრობი ქაღალდის ნარჩენები: მიუთითებს უფრო სუფთა და ნაკლებად ცხიმიან ზედაპირზე

ეს შდეგები ერთად აჩვენებს, თუ როგორ შეუძლია ეთილის მაკადამიატს ხელი შეუწყოს სწრაფ სრიალს, შემცირებულ წინააღმდეგობის უნარს და მსუბუქ შეგრძნებას ტრადიციული სილიკონის ზეთების გამოყენების გარეშე.

სილიკონების მხოლოდ პოზიციონირებით ჩანაცვლების ნაცვლად, ეთერი უზრუნველყოფს გაზომვად ფიზიკურ თვისებებს, რომლებიც ფორმულირებლებს ეხმარება სენსორული გამოცდილების ძირითადი ელემენტების აღდგენაში.

მოქნილი ზეთის ფაზის დიზაინის მხარდაჭერა

წასმის უნარის გაუმჯობესება დაფიქსირდა მდელოს ქაფის და ზეითუნის ზეთის ფუძეებში 2%-იანი დამატებისას, ხოლო ეფექტურობა პროგრესულად იზრდებოდა დოზის გაზრდასთან ერთად.

თავსებადობის სკრინინგმა ასევე აჩვენა თავსებადობა 21 ხშირად გამოყენებულ ზეთსა და დამარბილებელ ნივთიერებას შორის განსაზღვრული ტესტირების პირობებში. ეს ფართო თავსებადობა ხელს უწყობს მოქნილ ინტეგრაციას არსებულ ზეთის ფაზებთან და საშუალებას აძლევს ფორმულირებების შემქმნელებს დახვეწონ სენსორული მახასიათებლები ფორმულირების სისტემის სრული რედიზაინის გარეშე.

ამგვარად, ეთილ მაკადამიატს შეუძლია მრავალი გამოყენების მხარდაჭერა, მათ შორის:

● მსუბუქი სახის კრემები და ლოსიონები

● მზისგან დამცავი კრემები, რომლებიც გლუვ და თანაბარ წასმას საჭიროებენ

● სილიკონის გარეშე თმის ზეთები და შრატები

● სახის ზეთები და სხვა უწყლო სისტემები

● შემცირებული სილიკონის შემცველობის ფორმულირებები, რომლებიც უფრო მსუბუქ სენსორულ შესრულებას მოითხოვს

სენსორული ელეგანტურობის აღდგენა სილიკონების გარეშე

სილიკონის გარეშე ფორმულა არ ნიშნავს ელეგანტურობის კომპრომისზე წასვლას.

სილიკონის გარეშე პროდუქტების შემდეგი თაობა განისაზღვრება არა მხოლოდ იმით, თუ რა მოშორდება, არამედ იმით, თუ რამდენად ეფექტურად აღდგება სრიალის, გაშლისა და შემდგომი შეგრძნების უნარი გააზრებული ზეთის ფაზის დიზაინის მეშვეობით.

მცენარეული წარმოშობის პოზიციონირების, დაბალი სიბლანტის, სწრაფი გავრცელებისა და შემცირებული ნარჩენების შერწყმით, ეთილ მაკადამიატი ფორმულირებების შემქმნელებს მრავალმხრივ ინსტრუმენტს სთავაზობს მსუბუქი, აბრეშუმისებრი და დახვეწილი სილამაზის ფორმულირებების შესაქმნელად.

შედარებითი ტესტების მონაცემები, ფორმულირების სახელმძღვანელო და ნიმუშები ხელმისაწვდომია ფორმულირებების შემქმნელებისთვის, რომლებიც აფასებენ ეთილის მაკადამიატს სილიკონისგან თავისუფალ ან აღდგენილ სილიკონის სისტემებში.